플라즈마 분광기 견적

감지 결합 플라즈마 발사 분광기: 광물 탐사와 생산은 원자 스펙트럼 기기에 의존하여 위치도를 그리고 목표 원소를 확정한다.탐사 과정에서 보통 암심 샘플을 채취해 균일성을 확보하기 위해 연마한 뒤 실험실로 보내 분석한다.샘플링에서 분석까지의 지연은 병목 현상입니다.Cerawave 사용™ 기술의 MICAP-OES 1000은 탐사 현장에 설치할 수 있어 작업 결정 시간을 크게 단축할 수 있다.

현재 지질 시료에서 금속을 분석하는 데 사용되는 전통적인 실험실 기술은 원자 흡수법과 전기 감지 결합 아르곤 플라즈마 발사 스펙트럼법(ICP-OES)이다.전자는 가연성 가스를 사용하여 측정 범위가 제한되어 있다;후자는 아르곤 가스를 사용하며, 일반적으로 냉각기를 필요로 한다.두 기술 모두 원격 이동, 로컬 또는 원격 랩 테스트에 적합하지 않습니다.

감지 결합 플라즈마 발사 분광기: Radom사는 출력 1000W의 마이크로파 지시 결합 대기 플라즈마-광학 발사 분광기(MICAP-OES 1000)를 적용한 현장 기기 솔루션을 개발했다.이 혁신적인 질소 기반 플라즈마 원자 스펙트럼 기기는 전통적인 아르곤 가스 생성 플라즈마 기술을 대체합니다.MICAP-OES 1000은 현재 시판되고 있는 ICP-OES 기기의 전기수냉코일을 고효율 Cerawave 기술로 대체해 수냉이 필요 없다.[MICAP-OES 1000은 110V 또는 220V 전압에서 작동하며 일반 콘센트에서 작동합니다.]산업용 질소(99.98%)는 아르곤보다 훨씬 저렴하다.질소는 현지에서 질소 발생기를 사용하여 생산할 수 있어 가스를 지속적으로 구매할 필요가 없다.그것은 외진 지역의 가연성 가스에 대한 수요를 없앴다.

MICAP-1000은 시중에서 가장 작은 면적의 광학 발사 분광기로, 사용이 간편한 RIS(Radom Intuitive Software) 애플리케이션을 갖추고 있다.강력한 Cerawave 기술은 고해상도 sCMOS와 결합하여 제조 시료의 요소를 동시에 측정할 수 있습니다.현장에서 암심 샘플을 선별하여 결과를 더 빨리 확정할 수 있다.또한 한 지역에서 더 많은 샘플을 수집하여 잠재 생산량의 종합적인 지도를 그릴 수 있습니다.

MICAP-OES 1000을 사용하여 해소된 OREAS CRM을 분석하면 그 값이 왕수에서 제조됩니다.왕수소해법은 질산과 염산을 1:3 비율로 부분적으로 소해하는 것이다(1).

이 응용 프로그램 브리핑에서는 표준/샘플 제조, MICAP-OES 1000 기기 기술, 하드웨어 설명, 방법 매개 변수 및 결과 요약을 설명합니다.주요 측정원소는 왕수 침출액의 금이다.MICAP-OES 1000에는 동시 분석 기능이 있으므로 인증 참조 자료의 다른 요소로 분석 범위를 확장할 수 있습니다.

표 1.샘플 도입 영역(SIA)

샘플 가져오기 구성 요소 (SIA) 의 설치는 매우 간단합니다. 횃불 가이드 클립 손잡이를 함께 눌러 핀이 횃불 이동을 멈출 때까지 구멍으로 횃불을 유도한 다음 집게를 놓으면 됩니다.플라즈마 위치가 길다플라즈마 관찰을 교정할 필요가 없도록 설정합니다.그림1은 포지셔닝 핀이 달린 횃불 받침대, 받침대 손잡이가 달린 횃불 받침대 구멍, 제대로 설치된 횃불을 보여준다.

SIA 조립은 안개실 / 안개기 구성 요소를 볼 조인트에 끼워 넣습니다.펌프 튜브가 설치되었으며 SIA에 쉽게 연결할 수 있습니다.

테스트 샘플 제조

이 연구는 OREAS에서 다양한 CRM을 구입했습니다.이러한 CRM은 광산, 탐사 및 분석 산업을 위해 개발되었습니다 (2).표 2에는 CRM IDS와 해당 행렬 설명이 나열되어 있습니다.

CRM 샘플 제조를 위해 약 2g의 CRM을 50mL의 눈금 DigiTube(SCP Science 출품)로 측정한다.각 측정된 시료에 질산 2mL(HNO3), 염산 6mL(HCl), II형 물 20mL를 첨가한다.각 샘플 튜브에는 일회용 폴리머 표면 접시가 배치됩니다.각 제조 키트에는 샘플 제조와 동일한 해소 공백이 포함되어 있습니다.

DigiPREP Jr(50ml)를 사용하여 테스트 용액을 95°C에서 2시간 동안 환류합니다.테스트 시료가 실온으로 냉각되면 물로 50mL로 희석하고 1.0마이크로미터의 친수성 테플론을 사용한다® 여과막 여과.

표준 제조 교정

50 mL DigiTube 튜브를 사용하여 작업 표준 용액을 조제합니다.농도 범위는 0.025ppm에서 20ppm이며 희석제는 12% HCl/4% HNO3이다.교정 표준 용액의 농도와 매개변수는 표 3에 요약됩니다.MICAP-OES 1000 메소드 매개변수는 표 4에 요약되어 있습니다.